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帶預(yù)熱系統(tǒng)滑動式PECVD設(shè)備
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S06LC-YR
主要用途：是應(yīng)用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。
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設(shè)備介紹
該設(shè)備是一款帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動PECVD系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源，預(yù)熱爐，滑動式管式爐，4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和旋片泵組成。 PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜，可用于生長納米或CVD方法來制作各種薄膜。 該等離子化學沉積系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于沉積高質(zhì)量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等。是應(yīng)用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。產(chǎn)品優(yōu)勢
帶有預(yù)熱爐帶有預(yù)熱爐，氣體可通過此爐預(yù)熱也可將液體蒸發(fā)氣化或固體原料升華后與氣體原料混合
沉積溫度低與普通PECVD相比較，其沉積溫度大大降低，減少了高溫對薄膜的損壞
沉積效果好等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜
技術(shù)參數(shù)
| 產(chǎn)品名稱 | 帶預(yù)熱系統(tǒng)滑動式PECVD設(shè)備 |
| 滑軌管式爐部分 | |
| 產(chǎn)品型號 | KJ-T1200-S06LC-YR |
| 爐管尺寸 | 直徑60mm*長度1600mm 可選其他直徑Φ50/80/100/120/150mm （其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制） |
| 爐管材質(zhì) | 石英管 |
| 加熱區(qū) | 雙溫區(qū)，每個溫區(qū)長度200mm （其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制） |
| 工作溫度 | ≤1100℃ |
| 最高溫度 | 1200℃ |
| 溫控方式 | N型熱電偶 |
| 控制方式 | 觸屏控制 |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
| 升溫速率 | 建議≤10ºC/min |
| 加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
| 爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
| 爐體結(jié)構(gòu) | 爐體帶滑軌，可實現(xiàn)快速升溫和降溫 |
| 法蘭接頭 | 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
| 密封系統(tǒng) | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好。 |
| 預(yù)熱爐部分 | |
| 主要參數(shù) | 最高溫度1100度 ，多段程序控溫，可將固體和液體原料放在預(yù)熱爐中，氣化后與氣體原料相混合 |
| 真空系統(tǒng)部分 | |
| 主要參數(shù) | 采用機械，可實現(xiàn)爐管內(nèi)的真空 |
| 氣路系統(tǒng)部分 | |
| 名稱 | 四路質(zhì)量流量計（量程可選） |
| 等離子電源部分 | |
| 功率范圍 | 0-500W（連續(xù)可調(diào)） |
| 售后服務(wù) | 質(zhì)保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質(zhì)保范圍） |
| 更多規(guī)格可根據(jù)客戶需求定制 | |
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