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管式爐的分類(lèi)用途和特點(diǎn)

作者:鄭州科佳來(lái)源：原創(chuàng) 發(fā)表時(shí)間：2018-11-27 13:53:43

管式爐的分類(lèi)
管式爐根據(jù)用途可以分很多種類(lèi)，比如：真空管式爐，氣氛管式爐，高溫迷你管式爐，多溫區(qū)管式爐，開(kāi)啟式管式爐，立式管式爐，傾斜旋轉(zhuǎn)管式爐，滑道式管式爐，高溫高壓管式爐，RTP紅外燈管管式爐，多工位管式爐、雙管管式爐等等。這些管式爐主要應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。
這些常用管式爐的用途和特點(diǎn)如下：
三聚氰胺管式爐
用途：CVD工藝，如碳納米管的研制，三聚氰胺、尿素等化學(xué)實(shí)驗(yàn)的燒結(jié)分析，晶體硅基板鍍膜。
特點(diǎn)：抗氧化、耐腐蝕、升溫快；智能PID30段控溫，控溫精度高。
真空管式氣氛爐
用途：粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、真空退火、以及高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜。
特點(diǎn)：采用PID方式調(diào)節(jié)，可設(shè)置30段升降溫程序，爐管下方配有支架，有效防止?fàn)t管兩端高溫變形斷裂。
立式管式氣氛爐
用途：針對(duì)粉末表面沉積的CVD實(shí)驗(yàn)，適合薄膜生長(zhǎng)、電極測(cè)試、氧化物晶體生長(zhǎng)、快速退火等實(shí)驗(yàn)。
特點(diǎn)：爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上，四面加熱，溫場(chǎng)更均勻，流化床設(shè)計(jì)，反應(yīng)氣體和均勻地通過(guò)反應(yīng)區(qū)。
高溫高壓雙管管式爐
用途：適用于實(shí)驗(yàn)室需要高溫高壓環(huán)境并需準(zhǔn)確控制高溫高壓條件的各項(xiàng)科學(xué)研究，比如超導(dǎo)材料及介電材料的探索研究。
特點(diǎn)：保溫性能好，耐用，拉伸強(qiáng)度高，無(wú)雜球，純度高。
滑動(dòng)式管式快速退火爐
用途：低成本進(jìn)行快速熱處理。
特點(diǎn)：爐底安裝一對(duì)滑軌，可用手動(dòng)滑動(dòng)，可以快速加熱和降溫。
多工位管式電阻爐
用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、質(zhì)量檢測(cè)用的理想產(chǎn)品。
特點(diǎn)：體積小、重量輕，傾斜旋轉(zhuǎn)，使物料充分受熱。
可傾斜旋轉(zhuǎn)管式加熱爐
用途：主要運(yùn)用于粉末冶金，陶瓷磨料，耐火材料，鋰電正負(fù)極材料，稀土納米新能源等行業(yè)測(cè)定材料。
特點(diǎn)：具有燒成周期短、勞動(dòng)強(qiáng)度低等優(yōu)點(diǎn)。
RTP紅外燈管加熱管式爐
用途：半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片的退火。
特點(diǎn)：通過(guò)SCR功率控制進(jìn)行PID自動(dòng)控制。
三溫區(qū)管式氣氛爐
用途：高溫氣氛燒結(jié)、鍍膜、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品。
特點(diǎn)：雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)；高密度硅碳棒真空擠壓成型，三個(gè)溫區(qū)獨(dú)立控溫，高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型；30段可編程智能控制（可外接遠(yuǎn)程控制）。