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1100℃真空管式爐

KJ-T1100-S200CK1W
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管式PECVD等離子氣相沉積系統(tǒng)

KJ-TPECVD1100-S80CK3
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1200度箱式氣氛爐

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實驗室真空管式爐型號及主要特點

作者:鄭州科佳來源：原創(chuàng) 發(fā)表時間：2024-05-21 17:24:36

實驗室真空管式爐是一種廣泛應(yīng)用于材料科學、化學、物理學等領(lǐng)域的高溫處理設(shè)備，能夠在真空或特定氣氛環(huán)境下進行樣品加熱處理。實驗室真空管式爐的型號通常由制造商根據(jù)爐子的特定參數(shù)和功能來指定。這些參數(shù)可能包括最高溫度、爐膛尺寸、加熱區(qū)數(shù)量、控制系統(tǒng)的類型等。以下是一些常見型號及其特點：

一、常見的實驗室真空管式爐型號（以鄭州科佳電爐型號為例）：

①KJ-TG600高真空系列：
專為高真空環(huán)境設(shè)計，采用高真空分子泵組，冷態(tài)極限真空度可達6.67*10-3pa，最高工作溫度為500°C，適用于高純度材料的研究和開發(fā)。

②KJ-T1100系列：
這是一款標準的真空管式爐，工作溫度為1100°C以下，配有高精度溫控系統(tǒng)和真空泵接口，適用于一般實驗室的熱處理需求。

③KJ-T1400多溫區(qū)系列：
高溫管式爐，最高溫度可達1300°C，具有多溫區(qū)溫控功能，適用于復雜的熱處理過程。

④KJ-T1700系列：
這是一款高溫真空管式爐，溫度可以達到1600°C，配備了高效的真空系統(tǒng)和氣氛控制系統(tǒng)，適用于材料合成和熱處理。

⑤KJ-RTP系列：
適用于需要快速升溫和冷卻的實驗，溫度范圍廣，且具有真空和氣氛控制功能。主要應(yīng)用多種材料的快速退火、硅化、擴散、結(jié)晶、致密化等。

⑥KJ-CVD系列：
該系列由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成，最高溫度可以達到1200℃，可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，主要用于各種CVD化學氣相沉積實驗、碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長等。

二、真空管式爐的主要特點：

①高溫能力：大多數(shù)真空管式爐的最高溫度在1100°C到1800°C之間，可滿足各種高溫實驗需求。

②真空氣氛：配備真空泵和氣氛控制系統(tǒng)，可以在真空、惰性氣體或還原氣氛下進行實驗。

③控制系統(tǒng)：包括手動控制、程序控制（可編程）和計算機接口等，采用先進的溫控PID模糊控制，能夠提供高精度的溫度控制，確保實驗的可重復性。

④氣體流量：如果需要進行化學氣相沉積（CVD）或其他需要特定氣氛的工藝，氣體流量控制是一個重要參數(shù)。

⑤多區(qū)加熱：一些高端型號配備多區(qū)加熱功能，使得溫度分布更加均勻，適用于復雜樣品的熱處理。

⑥安全性好：配有多重安全保護措施，如超溫保護、斷耦保護，聲光預(yù)警等，在無人值守的條件下也能工作，確保操作安全。

實驗室真空管式爐在材料制備、化學反應(yīng)、熱處理等方面具有重要作用，選擇合適的型號和正確使用設(shè)備是確保實驗成功的關(guān)鍵。由于實驗室真空管式爐的型號和規(guī)格眾多，選擇時需要根據(jù)實驗室的具體需求和預(yù)算來決定。